Hasil Pencarian  ::  Simpan CSV :: Kembali

"Plasma atau biasa disebut sebagai lucutan pijar (Glow Discharge) merupakan keadaan materi keempat selain padat, cair, dan gas. Plasma adalah gas yang terdiri dari ion, elektron, dan berbagai partikel netral seperti radikal bebas dalam keadaan tereksitasi. Plasma dapat dihasilkan dari sumber daya gelombang radio (RF), daya gelombang mikro (microwave), dan juga daya tegangan tinggi. Plasma juga dapat dimanfaatkan juga sebagai pembersih permukaan benda padat yang terdapat zat kontaminan berskala sangat kecil (biasanya nanometer) hingga disebut metode Plasma Cleaning. Metode ini banyak digunakan pada sektor industrial seperti pengembangan alat mikorelektronik, penerbangan, bioteknologi, hingga alat medis di rumah sakit. Pada penelitian ini, plasma digunakan sebagai pembersih permukaan substrat. Pembersihan menggunakan plasma akan membantu menetralisir zat kontaminan yang berskala sangat kecil pada permukaan substrat. Namun, pada penelitian ini dibuat sistem pembersih plasma dengan ditambahkan medan magnet eksternal yang bertujuan untuk mengarahkan lucutan plasma tepat pada permukaan substrat yang ingin dibersihkan. Untuk menghasilkan plasma, pada penelitian ini dibuat sistem tabung dengan tekanan rendah sebesar 500 microns dan 2 buah elektroda yang diberikan beda potensial listrik tinggi sebesar 30 KV (High Voltage). Sampel substrat yang digunakan adalah kaca preparat yang terkontaminasi berskala kecil. Parameter kebersihan yang diamati pada penelitian ini berbentuk kualitatif yaitu dengan melihat sifat hidrofilik atau hidrofobik pada sampel sebelum dan sesudah dilakukan pembersihan plasma.

---

Plasma or commonly referred to as glow discharge (Glow Discharge) is the fourth state of matter besides solid, liquid, and gas. Plasma is a gas consisting of ions, electrons, and various neutral particles such as free radicals in an excited state. Plasma can be generated from radio wave (RF) power, microwave power, and high voltage power. Plasma can also be used as a surface cleaner for solid objects that contain very small-scale contaminants (usually manometers), so it is called the Plasma Cleaning method. This method is widely used in the industrial sector such as in the development of microelectronic devices, aviation, biotechnology, to medical devices in hospitals. In this study, plasma was used as a surface cleaner for the substrate. Cleaning using plasma will help neutralize very small-scale contaminants on the substrate surface. However, in this study, a plasma cleaning system was created with an external magnetic field added which aims to direct the plasma discharge exactly to the surface of the substrate to be cleaned. To produce plasma, in this study a tube system with a low pressure of 500 microns and 2 electrodes was made with a high electric potential difference of 30 kV (High Voltage). The substrate sample used was a small-scale contaminated glass preparation. The cleanliness parameters observed in this study were qualitative, by looking at the hydrophilic or hydrophobic properties of the samples before and after plasma cleaning."

"Telah berhasil dibangun pembersih permukaan substrat menggunakan metode vortex plasma yang mampu membersihkan kaca preparat yang semula memiliki sifat hidrofobik menjadi hidrofilik setelah dilakukan proses pembersihan. Sifat hidrofobik dan hidrofilik dari suatu permukaan digunakan untuk menyatakan kebersihan permukaan secara kualitatif. Pengamatan sudut kontak dari air yang diteteskan dengan metode sessile drop menyatakan kebersihan permukaan secara kuantitatif. Vortex plasma yang dihasilkan oleh sebuah kumparan sebagai penghasil medan magnet dan elektroda plat tembaga yang diberi beda potensial listrik. Medan magnet yang dihasilkan oleh kumparan dengan 320 lilitan yang diberikan arus DC sebesar 1,92 A adalah 5,42 mT. Dengan durasi waktu pembersihan 10 menit dengan tekanan 2000 micron dapat menghasilkan rata-rata sudut kontak 8 derajat, Sedangkan penggunaan perantara gas argon untuk proses pembersihan mampu menghasilkan rata-rata sudut kontak sebesar 4 derajat. Sudut kontak yang dihasilkan semakin mengecil seiring dengan lamanya waktu pembersihan, baik dengan gas argon maupun tanpa gas argon. Pengujian ini membuktikan bahwa gas argon lebih efektif untuk proses pembersihan dengan vortex plasma.

---

A substrate surface cleaner has been successfully built using the plasma vortex method which is able to clean preparate glass which originally had hydrophobic properties to become hydrophilic after the cleaning process. The hydrophobic and hydrophilic properties of a surface are used to describe the surface cleanliness qualitatively. Observation of the contact angle of the water dripped by the sessile drop method states the surface cleanliness quantitatively.Vortex plasma produced by a coil as a generator of the magnetic field and a copper plate electrode which is given an electric potential difference of 30KV. The magnetic field produced by a coil given a DC current of 1.92 A is 5.42 mT. With a cleaning time of 10 minutes with a pressure of 2000 microns, it can produce an average contact angle of 8 degrees, while the use of argon gas intermediary for the cleaning process is able to produce an average contact angle of 4 degrees. The resulting contact angle decreases with the duration of cleaning time, both with argon gas and without argon gas. This test proves that argon gas is more effective for the cleaning process with vortex plasma."